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双面研磨抛光机

设备简介

本机主要用于硅片、砷化镓片、陶瓷片、石英晶体及其它半导体材料的双面高精度研磨或抛光,也适用于其它金属、非金属、光学玻璃、蓝宝石等硬、脆、薄材料的双面高精度研磨或抛光。

设备特点

1. 机身结构优化设计,机架采用龙门式结构,刚性好,承压能力强,能满足高负载下高速稳定运行。

2. 下盘、上盘和太阳轮分别由电机单独驱动,电机均采用变频电机且使用变频调速器控制,能在有效设置范围内以任意速度工作,实现平稳的停止、加速、减速及换向,能有效的防止薄脆工件破碎。

3. 游星轮传动采用柱销齿结构,传动平稳无冲击,游星轮使用寿命长。柱销齿采用销套结构,销套用不锈钢材料经热处理加硬,防锈耐磨,柱销齿磨损后只需更换销套,方便简单,使用成本低。

4. 上盘下降过程中,设置了快降和缓降,缓降行程在气缸行程范围内可调,缓降速度也可根据工件抗冲击程度自由调整。

5. 本机通过精密电气比例阀调整控制加工压力,可根据不同加工工艺要求,设定加工压力,压力控制精度高。

6. 采用先进的PLC系统,触摸屏操作面板,所有工艺参数及工艺配方可在触摸屏上进行修改设置,可根据设定好的工艺参数自动完成整个加工过程。

7. 齿轮及各运动部位采用集中润滑装置,润滑良好,整机使用寿命长。

8. 上盘升降设计安全装置,在上盘升到顶时能有效的保护上盘不突然落下。

设备的应用

光学行业:在光学元件的加工中,如镜片、棱镜等,双面研磨抛光机能够确保光学元件达到极高的平面度和光洁度,满足其对表面质量的严格要求,进而提升光学性能

玻璃和石英:双面研磨抛光机也广泛应用于玻璃、石英等硬脆材料的研磨,确保这些材料的高精度加工。

半导体:在半导体材料的加工中,双面研磨抛光机能够提供微米级甚至纳米级的精度要求,适用于精密陶瓷、晶圆等电子元件的表面处理。

电子电器:在电子电器行业中,双面研磨抛光机被用于处理各种电子元件、电路板等,确保其在装配和使用过程中的稳定性和可靠性,等多个领域。

设备参数

项目

参数

项目

参数

上研磨盘尺寸

Φ610×φ210×40(mm)

上盘电机

4.0Kw

下研磨盘尺寸

Φ610×φ210×40(mm)

副电机

1.5Kw

游星轮参数

外径234mm 公制模数:2   齿数115齿

设备总功率

9.5Kw

游星轮数量

5

外形尺寸

1200×1200×2400(mm)

最大工件尺寸

Φ200(mm)

设备质量

≈2000Kg

工件厚度

0.3-30(mm)

平面加工精度

RMS 0.135um

下研磨盘转速

0-50(rmp)

厚度公差精度

不超过正负0.03mm

最大加工压力

200Kg

表面粗糙度

Rz0.05

主气缸

100×350

工件平行度

误差1弧秒

主电机

4.0Kw

处理表面清洁度

11141-84三级

处理周期

设定研磨抛光周期时间和处理周期完成后机器关闭

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