设备简介
本机主要用于硅片、砷化镓片、陶瓷片、石英晶体及其它半导体材料的双面高精度研磨或抛光,也适用于其它金属、非金属、光学玻璃、蓝宝石等硬、脆、薄材料的双面高精度研磨或抛光。
设备特点
1. 机身结构优化设计,机架采用龙门式结构,刚性好,承压能力强,能满足高负载下高速稳定运行。
2. 下盘、上盘和太阳轮分别由电机单独驱动,电机均采用变频电机且使用变频调速器控制,能在有效设置范围内以任意速度工作,实现平稳的停止、加速、减速及换向,能有效的防止薄脆工件破碎。
3. 游星轮传动采用柱销齿结构,传动平稳无冲击,游星轮使用寿命长。柱销齿采用销套结构,销套用不锈钢材料经热处理加硬,防锈耐磨,柱销齿磨损后只需更换销套,方便简单,使用成本低。
4. 上盘下降过程中,设置了快降和缓降,缓降行程在气缸行程范围内可调,缓降速度也可根据工件抗冲击程度自由调整。
5. 本机通过精密电气比例阀调整控制加工压力,可根据不同加工工艺要求,设定加工压力,压力控制精度高。
6. 采用先进的PLC系统,触摸屏操作面板,所有工艺参数及工艺配方可在触摸屏上进行修改设置,可根据设定好的工艺参数自动完成整个加工过程。
7. 齿轮及各运动部位采用集中润滑装置,润滑良好,整机使用寿命长。
8. 上盘升降设计安全装置,在上盘升到顶时能有效的保护上盘不突然落下。
设备的应用
光学行业:在光学元件的加工中,如镜片、棱镜等,双面研磨抛光机能够确保光学元件达到极高的平面度和光洁度,满足其对表面质量的严格要求,进而提升光学性能。
玻璃和石英:双面研磨抛光机也广泛应用于玻璃、石英等硬脆材料的研磨,确保这些材料的高精度加工。
半导体:在半导体材料的加工中,双面研磨抛光机能够提供微米级甚至纳米级的精度要求,适用于精密陶瓷、晶圆等电子元件的表面处理。
电子电器:在电子电器行业中,双面研磨抛光机被用于处理各种电子元件、电路板等,确保其在装配和使用过程中的稳定性和可靠性,等多个领域。
设备参数
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项目 |
参数 |
项目 |
参数 |
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上研磨盘尺寸 |
Φ610×φ210×40(mm) |
上盘电机 |
4.0Kw |
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下研磨盘尺寸 |
Φ610×φ210×40(mm) |
副电机 |
1.5Kw |
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游星轮参数 |
外径234mm 公制模数:2 齿数115齿 |
设备总功率 |
9.5Kw |
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游星轮数量 |
5 |
外形尺寸 |
1200×1200×2400(mm) |
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最大工件尺寸 |
Φ200(mm) |
设备质量 |
≈2000Kg |
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工件厚度 |
0.3-30(mm) |
平面加工精度 |
RMS 0.135um |
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下研磨盘转速 |
0-50(rmp) |
厚度公差精度 |
不超过正负0.03mm |
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最大加工压力 |
200Kg |
表面粗糙度 |
Rz0.05 |
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主气缸 |
100×350 |
工件平行度 |
误差1弧秒 |
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主电机 |
4.0Kw |
处理表面清洁度 |
11141-84三级 |
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处理周期 |
设定研磨抛光周期时间和处理周期完成后机器关闭 |
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