光学及半导体抛光液
- 产品编号 : AT61006
- 类别： 半导体光学设备
- 产品描述：
抛光液
抛光液是一种用于改善材料表面光洁度的化学产品。它主要通过去除表面杂质、平滑表面粗糙度来达到增光效果。抛光液具有良好的去油污、防锈、清洗和增光性能，能使金属制品显露出真实的金属光泽
抛光液的应用领域
抛光液广泛应用于各种材料的表面处理，特别是在金属加工、半导体制造等领域。例如，在芯片制造中，CMP（化学机械平坦化）技术使用抛光液来满足表面平整度和光洁度的严格要求。此外，抛光液还用于处理LED等高硬度材料的表面，如蓝宝石的加工
抛光液特点
环保性能：抛光液通常不含硫、磷、氯等有害添加剂，符合环保要求，不会对环境造成污染。此外，抛光液不含铬离子，节省了环保设备投资及废水处理费用。
适用范围广：抛光液适用于多种材质，如不锈钢的200、300、400系列等。其广泛的适用性使得在工业生产中具有很高的灵活性。
抛光效果：抛光液具有高效的抛光效果，能够在数分钟内达到镜面光亮的效果，且抛光质量高。此外，抛光液的电流密度小，电压低，电能消耗较传统工艺低1倍以上。
使用寿命和维护管理：抛光液的使用寿命长，易于维护管理，减少了频繁更换和处理的成本和时间。
成分和作用机制：抛光液通常由超细固体粒子（如纳米SiO2、Al2O3粒子等）、表面活性剂、稳定剂、氧化剂、螯合剂和去离子水混合而成。固体粒子提供研磨作用，化学氧化剂提供腐蚀溶解作用，共同影响抛光后的表面质量
产品目录/Portfolio
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磨料类型 Abrasive type |
Model |
Particle size (nm) |
pH |
性能特点 Features &advantages |
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A2O₃ |
Anttrans-233 |
300-350 |
9-11 |
用于碳化硅双面CMP,高速率、低划伤，循环使用寿命长 |
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Anttrans-235 |
100-150 |
3.7-4.5 |
用于碳化硅多片机双面CMP、单片机一步抛，表面质量好 |
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Anttrans-236 |
200-250 |
9-11 |
用于多片机、单片机一步抛，在高表面质量条件下保持高去除速率， 循环使用寿命长 |
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Anttrans-237 |
300-350 |
3.7-4.5 |
高去除速率，表面质量高 |
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SiO₂ |
Anttrans-133 |
110 |
3.2 |
高去除速率，表面质量高 |
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Anttrans-134 |
60 |
10 |
高去除速率，表面质量高，循环使用寿命长 |
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Anttrans-130 |
110-130 |
A:9.5-9.7 B:9.8-10.0 |
精抛，AB双组分，循环使用寿命长，使用前加入双氧水 |
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Anttrans-136 |
90-110 |
A:9.5-9.7 B:9.8-10.0 |
精抛，AB双组分，循环使用寿命长，使用前加入双氧水 |
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CeO₂ |
Anttrans-331 |
70-110 |
A:2.5-2.7 B:4.4-4.6 |
高速率、抛光后表面粗糙度低、表面质量好 |
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Anttrans-332 |
70-110 |
A:7-9 B:5-8 |
高速率、抛光后表面粗糙度低、表面质量好 |
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MnO₂ |
Anttrans-431 |
20 |
2.7 |
高去除速率，表面质量好，循环使用寿命长 |
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Anttrans-432 |
20 |
2.7 |
高去除速率，表面质量好，循环使用寿命长 . |
