半导体掩模版
- 产品编号 : AT61002
- 类别： 半导体光学设备
- 产品描述：
石英掩模版
石英掩模版（Quartz Mask）以高纯石英玻璃为基材，石英玻璃具有高透过率、高平坦度、低膨胀系数等优点，同时成本较高，通常应用于高精度掩模版产品。石英掩模版主要在半导体应用领域内使用，包括模拟IC、各种分立器件、MEMS以及平板显示等。
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ITEM |
Rank |
S |
Y |
A |
B |
C |
D |
E |
F |
G |
H |
I |
|
Design Rule |
(μm) |
＞5 |
2-5 |
1-2 |
1 |
0.8 |
0.5 |
0.35 |
0.25 |
0.18 |
0.15 |
0.13 |
|
CD Tolerance |
(±μm) |
±0.5 |
±0.3 |
±0.2 |
±0.15 |
±0.1 |
±0.075 |
±0.05 |
±0.04 |
±0.03 |
±0.025 |
±0.02 |
|
CD Range |
(μm) |
≤0.5 |
≤0.3 |
≤0.2 |
≤0.15 |
≤0.1 |
≤0.07 |
≤0.05 |
≤0.04 |
≤0.035 |
≤0.03 |
≤0.025 |
|
CD mean to target |
(μm) |
±0.5 |
±0.3 |
±0.2 |
±0.15 |
±0.1 |
±0.07 |
±0.04 |
±0.03 |
≤0.03 |
±0.02 |
±0.02 |
|
Registration & Overlay |
Based on the 1st layer(μm) |
±0.5 |
±0.3 |
±0.2 |
±0.15 |
±0.12 |
±0.10 |
±0.07 |
±0.05 |
≤0.04 |
±0.03 |
±0.02 |
|
Defect |
Defect size(μm) |
＜4 |
＜2 |
＜1.0 |
＜1.0 |
＜0.75 |
＜0.5 |
＜0.4 |
＜0.3 |
＜0.3 |
＜0.25 |
＜0.20 |
苏打掩模版
苏打掩模版（Soda Mask）使用苏打玻璃作为基板材料，苏打玻璃热膨胀率相对高于石英玻璃，平整度和耐磨性相对弱于石英玻璃，成本相对较低，通常应用于中低精度掩模版。苏打掩模版主要在精度要求较低的领域中使用，包括中低端半导体制造、半导体封装、光学器件、中低端显示面板、触控屏和电路板制造等领域。
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ITEM |
Rank |
S |
Y |
A |
B |
C |
D |
E |
F |
G |
H |
I |
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Design Rule |
(μm) |
＞5 |
2-5 |
1-2 |
1 |
0.8 |
0.5 |
0.35 |
0.25 |
0.18 |
0.15 |
0.13 |
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CD Tolerance |
(±μm) |
±0.5 |
±0.3 |
±0.2 |
±0.15 |
±0.1 |
±0.075 |
±0.05 |
±0.04 |
±0.03 |
±0.025 |
±0.02 |
|
CD Range |
(μm) |
≤0.5 |
≤0.3 |
≤0.2 |
≤0.15 |
≤0.1 |
≤0.07 |
≤0.05 |
≤0.04 |
≤0.035 |
≤0.03 |
≤0.025 |
|
CD mean to target |
(μm) |
±0.5 |
±0.3 |
±0.2 |
±0.15 |
±0.1 |
±0.07 |
±0.04 |
±0.03 |
≤0.03 |
±0.02 |
±0.02 |
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Registration & Overlay |
Based on the 1st layer(μm) |
±0.5 |
±0.3 |
±0.2 |
±0.15 |
±0.12 |
±0.10 |
±0.07 |
±0.05 |
≤0.04 |
±0.03 |
±0.02 |
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Defect |
Defect size(μm) |
＜4 |
＜2 |
＜1.0 |
＜1.0 |
＜0.75 |
＜0.5 |
＜0.4 |
＜0.3 |
