电子束蒸发沉积系统
- 产品编号 : AT60041
- 类别： 光学材料及设备
- 产品描述：
电子束蒸发沉积系统
电阻/辐射加热(可通惰性气体及氧气)
样品台集成电阻加热、液氮冷却
快开门和防污板设计，方便维护
镀膜过程全自动控制
样品台可旋转、升降、平移、倾斜
进样室/手套箱，可与PLD/ 磁控真空 互联
可集成热蒸发/离子束辅助沉积
超高真空兼容选项
设备参数
真空腔体
450mm×450mm×5 00mm 500mm×500mm×700mm
600m m×600mm×1000mm
腔体材质
304/316不锈钢，电解抛光
真空系统
分子泵/低温泵+机械泵
极限真空
9×10⁻⁶Pa/9×10⁻⁷Pa
E型电子枪
电压6KV-10KV,带有XY偏转扫描
坩埚
4穴、6穴、8穴、环形可选，12cc、22cc、40cc等
功率
6KW～10KW、其它功率(可根据用户要求选配)
基片尺寸
2-4英寸 2-6英寸 2-8英寸
加热温度
900℃
冷台
水冷/液氮冷却
最低温度-150℃
低温至室温连续可控
转动
旋转/倾斜
膜厚监控
膜厚测量精度：0.03A,速率测量精度：0.1A/S进口和国产根据客户需求选配
电控系统
PLC
报警及保护
完善的程序互锁，完备的防误操作设计及保护
工艺气体
可选
冷却系统
水流、水压、水温检测
高通量功能
可选
选配
进样室/离子束辅助沉积/手套箱/热蒸发/真空互联
